Procesy osadzania metodą LPCVD

Oferujemy wykonanie w kontrolowany sposób procesów chemicznego osadzania z fazy lotnej warstw polikrzemu oraz azotku krzemu pod obniżonym ciśnieniem (Low Pressure Chemical Vapor Deposition). Wykonujemy:

• chemiczne osadzanie z fazy lotnej pod obniżonym ciśnieniem (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) polikrzemu w temperaturze do 900°C,
• chemiczne osadzanie z fazy lotnej pod obniżonym ciśnieniem (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) azotku krzemu w temperaturze do 900°C,
• procesowanie w powtarzalny sposób dużych partii w jednym procesie: 25 podłóż o średnicy 200 mm/8’’ oraz 50 podłóż o średnicy 100 mm/4’’ i 150 mm/6’’.

Słowa kluczowe: LPCVD, chemiczne osadzanie, faza lotna polikrzemu, faza lotna azotku krzemu

kontakt: uslugi.cezamat@pw.edu.pl