Maski fotolitograficzne

Możliwość wytwarzania masek fotolitograficznych metodą elektronolitografii na własnych lub dostarczonych podłożach.

Parametry maski:

Rozmiar podłoża maski 5” lub 7”
Podłoża szklane lub kwarcowe
Rozdzielczość wykonanego wzoru nawet poniżej 300 nm (do ustalenia w zależności od wzoru)
Grubość warstwy chromu 100 nm

Istnieje możliwość dobrania innej grubości warstwy chromu i innego materiału podłoża oraz uzyskania większej rozdzielczości.