Maski fotolitograficzne

Możliwość wytwarzania masek fotolitograficznych metodą elektronolitografii na własnych lub dostarczonych podłożach.

Parametry maski:

  • Rozmiar podłoża maski 5” lub 7”
  • Podłoże szklane
  • Rozdzielczość wykonanego wzoru od 1 µm
  • Grubość warstwy chromu 100 nm

Istnieje możliwość dobrania innej grubości warstwy chromu i innego materiału podłoża oraz uzyskania większej rozdzielczości.

Zapraszamy do kontaktu: seminsys.cezamat@pw.edu.pl

Skip to content