Dziedzina / dyscyplina

  • Dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych – automatyka, elektronika i elektrotechnika 
  • Dziedzina nauk ścisłych i przyrodniczych – nauki fizyczne 
  • Dziedzina nauk ścisłych i przyrodniczych – nauki chemiczne

Infrastruktura Badawcza

Wybrane obszary oferowanych usług wraz z dostępnymi urządzeniami i zakresem ich możliwości wykorzystania w pracach naszych partnerów: 

  1. Wysokorozdzielczy skaningowy mikroskop elektronowy (HR-SEM) Auriga 60 firmy Carl Zeiss o dolności rozdzielczej powyżej 2,0 nm@1kV, powyżej 1,0 nm@15kV, powiększeniu: od 20 do 2 000 000. 
  2. Mikroskop optyczny Axio firmy Carl Zeiss (powiększenie od 12.5 do 1500).
  3. Elipsometr spektroskopowy Uvisel2 firmy Horiba Jobin Yvon (zakres spektrum pomiarowego: 190 µm – 2100 µm) wykorzystywany do wyznaczania grubości cienkich warstw oraz mapowania (2D);
  4. System do bondingu EVG510/200 firmy EVGroup (EVG) wykorzystywany do łączenia podłoży krzemowych; 
  5. Urządzenie do centrowania i naświetlania masek EVG6200NT /200/TB firmy EVGroup (EVG) wykorzystywane do odwzorowania kształtów; 
  6. System Spin|Step SpinMask 300 firmy AP&S do czyszczenia masek oraz realizacji procesów chemicznych na pojedynczych płytkach; 
  7. Półautomatyczne stacje do nanoszenia warstw rezystu (emulsji światłoczułej) oraz jej wywoływania firmy EVGroup (EVG); 
  8. Urządzenie do trawienia w plazmie chlorowej oraz fluorowej przy pomocy jonów reaktywnych (RIE – ang. Reactive Ion Etching) PlasmaPro 100 ICP (ang. Inductively Coupled Plasma) firmy Oxford Instruments; 
  9. Urządzenie do osadzania warstw metodą rozpylania magnetronowego (w tym także reaktywnego) PlasmaPro 400 firmy Oxford Instruments wykorzystywane do osadzania warstw z targetów; 
  10. Urządzenie do osadzania w plazmie metodą PECVD (ang. Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition) PlasmaPro 100 firmy Oxford Instruments wykorzystywane do osadzania warstw dwutlenku krzemu (SiO2), azotku krzemu (SiNx), tlenko-azotku krzemu (SiOxNy), krzemu amorficznego (a-Si), z możliwością kontroli składu i naprężeń mechanicznych; 
  11. Implantator jonów FLEXion 200 firmy IBS umożliwia prowadzenie implantacji jonów przy podłożach  podgrzewanych do 500°C;
  12. Urządzenia do obróbki chemicznej (ang. batch spray) firmy Siconnex, wykorzystywane do automatycznego trawienia cienkich warstw oraz czyszczenia chemicznego podłoży w wieloetapowym procesie standard cleaning;  
  13. Urządzenie do litografii wiązką elektronową JBX-9300FS firmy Jeol wykorzystywane do odwzorowywania kształtów na podłożu w skali nanometrycznej, prototypowania i testowania wzorów oraz wytwarzanie masek do fotolitografii; 
  14. Dwa zestawy pieców horyzontalnych do procesów średnio i wysokotemepraturowych firmy Termco oraz LPCVD (ang. Low Pressure Chemical Vapour Deposition), wykorzystywane do wygrzewanie , utleniania oraz domieszkowania podłoży krzemowych a także osadzania warstw plikrzemu i azotku krzemu (SixNy);
  15. Chemia rezystów – Zestaw urządzeń firmy Sawatec umożliwiający kontrolowaną obróbkę termiczną rezystów. 
  16. Piec typu RTP (Rapid Thermal Processing) do prowadzenia procesów w temperaturze do 1450oC, z szybkością nagrzewania do 200oC/s

Zespoły

Wybrane Projekty i współpraca

  1. PRIME – Ultra-Low PoweR technologIes and Memory architectures for IoT, Celem projektu było wykonanie otwartej platformy do technologicznej  Ultra Low Power (ULP) na potrzeby internetu rzeczy (IoT)  
  2. Techmatstrateg III – Technologie układów fotoniki scalonej na zakres średniej podczerwieni (MIRPIC). Celem jest opracowanie technologii fotonicznych układów scalonych działających w zakresie średniej podczerwieni 
  3. FOTECH-1 – we współpracy z Wydziałem Fizyki PW, dotyczy opracowania nowej klasy łatwo przestrajanych, sterowanych polem elektrycznym falowodowych układów optofluidycznych w postaci mikrokanałów, wytworzonych w PDMS i wypełnionych materiałem ciekłokrystalicznym. 
  4. NCN PRELUDIUM tytuł: Badanie zjawiska tunelowania międzypasmowego między niskowymiarowymi gazami nośników w polowym tranzystorze tunelowym
  5. AREP (podwykonawstwo) – celem było opracowanie elektroniki pokładowej dron

 

CEZAMAT ściśle współpracuje w zakresie technologii terahercowych z  jednostką CENTERA – Centrum Badań i Zastosowań Technologii Terahercowych (Instytut Wysokich Ciśnień PAN). Współpraca obejmuje badania nad podstawowymi i aplikacyjnymi własnościami promieniowania terahercowego.

Oferta B+R obejmuje szereg usług badawczych i technologicznych. Najprostszy model oferowanych usług to optymalizacja wykonania pojedynczych procesów z wykorzystaniem unikatowej aparatury. Najczęściej wybierany przez partnerów przemysłowych i badawczych model współpracy z SEMISYS obejmuje opracowanie układów funkcjonalnych od etapu projektu, do uzyskania docelowej geometrii struktur spełniających zadaną funkcjonalność. Oznacza to, że zespół realizuje szeroki zakres procesu rozwojowego układów scalonych specjalnego przeznaczenia. Odpowiadamy na zapotrzebowanie Partnera przemysłowego, zapewniając obsługę cyklu rozwojowego od określenia wymagań funkcjonalnych przez Partnera, do dostarczenia serii pilotażowej wraz z dokumentacją techniczną pozwalającą na masową produkcję. Oferta dotycząca jednostkowych usług, w tym procesów pojedynczych i cykli procesów obejmuje: charakteryzację, optymalizację wytwarzania warstw pod zadanym kątem, odwzorowanie kształtów, wykonanie, wraz z optymalizacją złożonej sekwencji procesów technologicznych.

Kontakt

Usługi badawcze

Skip to content