Biografia
Ukończył studia na Wydziale Chemicznym Politechniki Warszawskiej. W 2014 r. obronił rozprawę doktorską: “Opracowanie i badania mikroukładów z konduktometryczną detekcją jonowego składu próbki”. Przez 6 lat pracował w Instytucie Technologii Elektronowej gdzie zajmował się głównie technologią półprzewodników III‑V. W latach 2016‑2019 był inżynierem procesowo-serwisowym w Oxford Instruments. Od 2019 roku jest pracownikiem CEZAMAT. Jego zainteresowania badawcze obejmują między innymi procesy plazmowe w technologii półprzewodnikowej oraz projektowanie i konstruowanie układów mikroprzepływowych.
Obszar badań
- procesy plazmowe: ICP, RIE, PECVD, ALD, rozpylanie magnetronowe
- układy mikroprzepływowe (mikrofluidyka)
- detekcja optyczna i elektrochemiczna w układach mikroprzepływowych
- fotolitografia
Wybrane publikacje
- Pągowska K., Kozubal M., Taube A., Kruszka R., Kamiński M., Kwietniewski N., Juchniewicz M., Szerling A., The interplay between damage- and chemical-induced isolation mechanism in Fe+-implanted AlGaN/GaN HEMT structures, Materials Science in Semiconductor Processing, 127, 2021.
- Ekielski, M., Juchniewicz, M., Płuska, M., Wzorek, M., Kamińska, E., Piotrowska, A. Nanometer scale patterning of GaN using nanoimprint lithography and Inductively Coupled Plasma etching (2015) Microelectronic Engineering, 133, pp. 129-133.
- Juchniewicz, M., Chudy, M., Brzózka, Z., Dybko, A. Bonding-less (B-less) fabrication of polymeric microsystems (2009) Microfluidics and Nanofluidics, 7 (5), pp. 733-737.